深圳平湖實驗室最新進展:β銠合金氧化鎵p型導(dǎo)電的可行性研究
由深圳平湖實驗室的研究團隊在學(xué)術(shù)期刊 Journal of Applied Physics 發(fā)布了一篇名為 Feasibility of p-type conduction in beta rhodium alloyed gallium oxide(β銠合金氧化鎵中p型導(dǎo)電的可行性)的文章。查顯弧博士是該文的第一作者,萬玉喜主任和張道華院士是該文通訊作者,南京理工大學(xué)李爽副教授及深圳平湖實驗室劉妍博士、楊茂謹(jǐn)、焦騰博士、陳嘉祥博士和丁祥金博士為共同作者。
一、 項目支持
深圳市平湖實驗室項目(Grant No. 224110)提供的資金支持,以及深圳國家超級計算中心提供的計算資源。
二、 背景
β-氧化鎵(β-Ga2O3)是一種性能優(yōu)異的超寬禁帶半導(dǎo)體,在功率器件領(lǐng)域備受關(guān)注。 但其難以實現(xiàn)有效的 p 型導(dǎo)電,這極大地限制了其在雙極型器件(如 p-n 結(jié))中的應(yīng)用,是該領(lǐng)域面臨的核心挑戰(zhàn)。根據(jù)化學(xué)調(diào)制價帶理論,通過引入具有與氧 2p 軌道能量相近的陽離子軌道,可以有效提升價帶頂(VBM)的位置,從而使受主能級變淺,實現(xiàn)p型摻雜。前期研究預(yù)測,在 β-Ga2O3 中合金化銠(Rh)形成的 β-(RhxGa1−x)2O3 材料,不僅能保持超寬禁帶,還能將價帶頂(VBM)提升超過 1.35 eV,并減小空穴有效質(zhì)量,這為實現(xiàn) p 型導(dǎo)電提供了理論可能性。然而,能否在這種新型合金中找到合適的受主摻雜劑并獲得良好的空穴遷移率,是驗證其 p 型導(dǎo)電可行性的關(guān)鍵,需要進一步的理論研究。
三、 主要內(nèi)容
β-氧化鎵(β-Ga2O3)因其超寬帶隙和成熟的合成方法,在功率器件領(lǐng)域備受關(guān)注。然而,β-Ga2O3 缺乏 p 型導(dǎo)電性限制了器件性能。近期研究預(yù)測,銠合金 β-Ga2O3(即 β-(RhxGa1−x)2O3 具有升高的價帶頂(VBM)和減小的空穴質(zhì)量。本研究探索在 β-(RhxGa1−x)2O3 中實現(xiàn) p 型摻雜的可行性。通過計算發(fā)現(xiàn),Li、Na 和 Cu 摻雜在 β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 中的受主能級低于 0.4 eV。價帶頂?shù)纳撸由蠐诫s元素軌道與價帶頂軌道間的弱相互作用,對實現(xiàn)淺能級受主起到了關(guān)鍵作用。在空穴濃度為 1017 cm−3 且室溫條件下,β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 的空穴遷移率可達 10.7 cm2 V−1 s−1,高于多數(shù) p 型金屬氧化物的數(shù)值。此外,空穴遷移率呈現(xiàn)各向異性特征,其數(shù)值主要受極性光學(xué)聲子散射限制。本研究證實 β-(RhxGa1−x)2O3 合金實現(xiàn) p 型摻雜具有可行性,基于該材料構(gòu)建的 p-n 同質(zhì)結(jié)有望顯著拓展合金氧化物的應(yīng)用領(lǐng)域。
四、 總結(jié)
本研究深入探討了 β-(RhxGa1−x)2O3 合金中 p 型導(dǎo)電的可行性。針對 β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 與 β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 體系,我們研究了潛在的p型摻雜策略,并測定了 0≤x≤0.5 范圍內(nèi) β-(RhxGa1−x)2O3 的空穴遷移率。針對 p 型摻雜方案,考慮了 Li、Na、K、Be、Mg、Ca、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Hg 及 Ga 空位等摻雜情形。價帶頂能級與摻雜元素的鍵合強度對受主能級大小具有決定性影響。在相同位置下,特定摻雜劑的受主能級隨價帶頂能級升高而降低。在 β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 中,Mg 摻雜劑的受主能級測定值為 0.543 eV。位于八面體 Ga 位點的 Li 和 Na 摻雜劑受主能級顯著低于位于四面體 Ga 位點數(shù)值,其值分別為 0.388 eV 和 0.381 eV。這些較低的受主能級可歸因于摻雜劑軌道與價帶頂軌道之間的相互作用較弱。就空穴遷移率而言,β-(RhxGa1−x)2O3 合金通常比 β-Ga2O3 具有更高的數(shù)值。值得注意的是,β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 和 β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 尤其如此。在室溫下,β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 的空穴遷移率在空穴濃度為 1017 cm−3 時可達 10.7 cm2 V−1 s−1,高于大多數(shù) p 型金屬氧化物的數(shù)值。該空穴遷移率呈現(xiàn)顯著各向異性,其數(shù)值受極性光學(xué)聲子散射限制??傮w而言,與 β-Ga2O3 相比,β-(RhxGa1 − x)2O3 合金通常具有更淺的受主能級和更高的空穴遷移率。預(yù)測特性表明,在 β-(RhxGa1 − x)2O3 合金中實現(xiàn) p 型導(dǎo)電確實可行。鑒于其超寬帶隙特性,這些合金在高功率器件、深紫外光電子學(xué)、CMOS 技術(shù)及其他領(lǐng)域具有潛在應(yīng)用前景。

圖1. (a)–(c) 分別展示β-Ga2O3、β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 和 β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 的側(cè)視圖。其中 Ga、O 和 Rh 原子分別用綠色、紅色和灰色圓圈表示。

圖2. (a)第 1 族、第 2 族、第 11 族、第 12 族元素及 Ga 空位摻雜β-(Rh0.25Ga0.75)2O3的受主能級分布。同時考察了位于 Ga-I 位點和 Ga-II 位點的摻雜劑受主能級。(b) β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 中摻雜劑的受主能級,僅研究了位于 Ga-II 位點的摻雜劑。

圖3. (a) β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 與對應(yīng) MgGa-II 構(gòu)型在電中性狀態(tài)下的總態(tài)密度 (DOS) 對比;(b) MgGa-II 構(gòu)型中各元素的投影態(tài)密度,該構(gòu)型基于 β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 構(gòu)建; (c) 基于 β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 衍生的 MgGa-II 構(gòu)型中鎂元素的態(tài)密度分布;(d) β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 與對應(yīng) MgGa-II 構(gòu)型在電中性狀態(tài)下的態(tài)密度對比; (e) 基于 β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 構(gòu)型中 MgGa-II 構(gòu)型各元素的投影態(tài)密度;(f) 基于 β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 構(gòu)建的 MgGa-II 構(gòu)型中鎂的態(tài)密度。圖 (a) 和 (d) 中的垂直虛線分別代表體相 β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 與 β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 的費米能級。缺陷構(gòu)型與體相構(gòu)型的能態(tài)分布均通過遠離摻雜鎂原子的氧原子 O 1s 核心能級進行對齊。

圖4. (a) β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 與基于該結(jié)構(gòu)的 NaGa-I 構(gòu)型能態(tài)密度比較;(b) NaGa-I 構(gòu)型中各元素的投影能態(tài)密度,該構(gòu)型基于 β-(Rh0.25Ga0.75)2O3構(gòu)建; (c) 基于 β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 的 NaGa-I 構(gòu)型中鈉的態(tài)密度分布;(d) β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 與基于該結(jié)構(gòu)的 NaGa-II 構(gòu)型態(tài)密度分布對比; (e) 基于 β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 的 NaGa-II 構(gòu)型中各元素的投影態(tài)密度;(f) 基于 β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 構(gòu)建的 NaGa-II 構(gòu)型中鈉的態(tài)密度分布。圖 (a) 和 (d) 中的垂直虛線分別對應(yīng)體相 β-(Rh0.25Ga0.75)2O3的費米能級。缺陷構(gòu)型與體相構(gòu)型的能態(tài)分布均以遠離摻雜鈉原子的氧原子 O 1s 核心能級為基準(zhǔn)進行對齊。

圖5.(a) β-Ga2O3 的室溫空穴遷移率。青色圓圈和藍色星號分別表示引用文獻 [31] 和 [30] 中的實驗值。(b) β-Ga2O3 的室溫電子遷移率,青色圓圈和藍色星號分別代表引用文獻 [56] 和 [57] 中的實驗數(shù)據(jù)。

圖6. (a) β-Ga2O3 與 β-(RhxGa1−x)2O3 的空穴遷移率,其中 x 值分別為 0.125、0.250、0.375 和 0.500。這五種構(gòu)型對應(yīng)的數(shù)據(jù)點清晰標(biāo)注:β-Ga2O3 的空穴遷移率值以淺藍色圓圈表示,β-(Rh0.125Ga0.875)2O3 以深綠色星號表示,β-(Rh0.25Ga0.75)2O3 以深青色六邊形表示,β-(Rh0.375Ga0.625)2O3 的空穴遷移率值用暗灰色菱形表示,β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 的空穴遷移率值用深紅色方塊表示。(b)–(e) β-(RhxGa1−x)2O3(x 值分別為 0.125、0.250、0.375 和 0.500)的取向依賴空穴遷移率。各子圖中,沿 a 軸、 b 軸和 c 軸的空穴遷移率分別用青色圓圈、藍色方塊和綠色星號表示。平均值以黑色圓圈標(biāo)示。

圖7. (a) β-(Rh0.125Ga0.875)2O3、 (b) β-(Rh0.25Ga0.75)2O3、(c) β-(Rh0.375Ga0.625)2O3 及 (d) β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 在特定散射機制下的空穴遷移率。ADP、IMP和POP空穴遷移率分別用青色六邊形、藍色正方形和綠色星號表示。整體空穴遷移率以灰色圓圈表示。

圖8. (a)–(d) 分別為 β-(Rh0.125Ga0.875)2O3、β-(Rh0.25Ga0.75)2O3、β-(Rh0.375Ga0.625)2O3及β-(Rh0.5Ga0.5)2O3 在價帶頂處的價帶色散,以及(e)-(h)對應(yīng)的聲子帶色散。
DOI:
doi.org/10.1063/5.0279883
本文轉(zhuǎn)發(fā)自《亞洲氧化鎵聯(lián)盟》訂閱號
